實驗儀器-硫酸鹽干濕循環試驗機在使用中會沾上油膩、膠液、汗漬等污垢，在貯藏保管不慎時會產生銹蝕、霉斑，這些污垢對儀器的壽命、性能會產生極其不良的影響。清洗的目的就在于除去儀器上的污垢。通常儀器的清洗有兩類方法，一是機械清洗方法，即用鏟、刮、刷等方法清洗;二是化學清洗方法，即用各種化學去污溶劑清洗。具體的清洗方法要依污垢附著表面的狀況以及污垢的性質決定。

　　硫酸鹽干濕循環試驗機中用橡膠制成的零部件很多，橡膠作為一種高分子有機物，在沾有油膩或有機溶劑后會老化，使零部件產生形變，發軟變粘;用橡膠制成的傳動帶，若沾有油污會使摩擦系數減小，產生打滑現象。

　　清洗橡膠件上的油污，可用酒精、四氯化碳等作為清洗劑，而不能使用有機溶劑作為清洗劑。清洗時，先用棉球或絲布蘸清洗劑拭擦，待清洗劑自然揮發干凈后即可。應注意，四氯化碳具有毒性，對人體有害，清洗時應在較好通風條件下進行，注意安全。

　　有金屬、氧化物、酸、堿等污物，清洗時，應根據污垢的特點，用強酸、強堿清洗或動用中和化學反應的方法除垢，然后再用水沖洗干凈。使用酸堿清洗時，應特別注意安全，操作者應帶橡膠手套防護鏡，操作時要使用鑷子，夾子等工具，不能用手取放器皿。光學玻璃表面發霉，是一種常見現象。當光學玻璃生霉后，光線在其表面發生散射，使成像模糊不清，嚴重者將使儀器報廢。光學玻璃生霉的原因多是因其表面附有微生物孢子，在溫度、濕度適宜，又有所需″營養物″時，便會快速生長，形成霉斑。對光學玻璃做好防霉防污尤為重要，一旦產生霉斑應立即清洗。消除霉斑，清洗霉菌可用0.1～0.5%的乙基含氫二氯硅烷與無水酒精配制的清洗劑清洗，濕潮天氣還要摻入少量的，或用環氧丙烷、稀氨水等清洗。使用上述清洗劑也能清洗光學玻璃上的油脂性霧、水濕性霧和油水混合性霧等。